Fail:Wafer flats convention v2.svg

Allikas: testwiki
Mine navigeerimisribale Mine otsikasti
Algfail (SVG-fail, algsuurus 150 × 150 pikslit, faili suurus: 13 KB)

See on jagatud fail allikast Wikimedia Commons ja seda saab kasutada ka teistes projektides. Faili sealne kirjeldus on kuvatud allpool.

Lühikirjeldus

Kirjeldus

Wafer flats convention, based on Image:Wafer flats convention.PNG

Conventional meaning of flats in semiconductor wafers. Red denotes material that has been removed.

Wafer orientation is the orientation of the crystallographic plane in which the crystal grew. Wafer type indicated the type of doping.
Primary flat - indicates crystallographic planes of high symmetry (usually the {110} face).
Secondary flat - it's position relative to Primary flat or it's absence is indicating the doping type and the orientation of wafer.

  • Absence - p {111}
  • 90° - p {100}
  • 180° - n {100}
  • 45° - n {111}
Wafers under 200mm generally have flats indicating crystallographic planes of high symmetry (usually the {110} face) and, in old-fashined wafers (those below about 100mm diameter), the wafer's orientation and doping type. Modern wafers use a notch to convey this information, in order to waste less material. Orientation is important for wafer cleavage, and can affect other structural and electronic properties as well.
Kuupäev
Allikas

self-made,

 See vektorkujutis on valmistatud rakendusega Inkscape .
Autor Twisp
Teised versioonid Wafer flats convention.PNG

Litsents

Public domain Selle teose autoriõiguste valdajana annan selle teose avalikku omandisse. See kehtib üleilmselt.
Kui see pole mõnes riigis õiguslikult võimalik:
Annan kõigile õiguse seda teost kasutada ükskõik mille jaoks, ilma ühegi tingimuseta, kui seadus neid just ei sea.

Pealdised

Lisa üherealine seletus sellest, mida fail esitab

Selles failis kujutatud üksused

kujutab

Faili ajalugu

Klõpsa kuupäeva ja kellaaega, et näha sel ajahetkel kasutusel olnud failiversiooni.

Kuupäev/kellaaegPisipiltMõõtmedKasutajaKommentaar
viimane24. september 2013, kell 22:40Pisipilt versioonist seisuga 24. september 2013, kell 22:40150 × 150 (13 KB)wikimediacommons>Cepheidenfixed position of secondary flat Silicon processing for the VLSI era - Vol. 1 - Process technology; S Wolf; RN Tauber - Lattice Press; 1986; ISBN 096167237; p. 23

Seda faili kasutab järgmine lehekülg: